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硬铬电镀添加剂
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CA-2000硬铬电镀添加剂/ProjecDetails

CA-2000硬铬电镀添加剂

产品简介:
CA-2000硬铬电镀工艺是高新技术和创造思维的结晶,完全不同与常规镀铬和普通混合型催化剂镀铬工艺,其工艺操作简单,补给水单一添加,镀液维护方便。
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CA-2000硬铬电镀工艺是高新技术和创造思维的结晶,完全不同与常规镀铬和普通混合型催化剂镀铬工艺,其工艺操作简单,补给水单一添加,镀液维护方便。

CA-2000硬铬电镀添加剂CA-2000硬铬电镀添加剂


工艺特点

1.阴极电流效率高,可达23-25%

2。沉积速度快,是一般普通电镀铬的2-3倍

3.无阴极低电流区腐蚀

4。镀层平滑,结晶细致光亮

5.高镀层硬度,可达HV900-1150

6。微裂纹可达400-600条/厘米

7。镀层厚度均匀,无高电流区沉积过厚

8。可使用高电流密度,可达90安培/平方分米

9。镀液维护简单,操作容易

10.无阳极腐蚀,不需采用特殊阳极

11.无固体添加之铭尘和溅水现象


镀液配方和操作工艺

成分和物理参数

一般零件

活塞环

范围

标准

范围

标准

铬酐(克/升)

210-250

230

165-190

180

硫酸(克/升)

2.4-3.5

2.7

1.8-2.1

2.0

温度(℃)

55-60

57

55-60

57

阴极电流密度(安培/平方分米)

30-75

60

30-75

60

阳级电流密度(安培/平方分米)

15-35

30

15-35

30


镀液配制

镀件

铬酐浓度

100升镀液

一般零件

210-250克/升

2升CA-2000

活塞环

165-190克/升

1。45升CA-2000


1。清洗槽子

2.注入一半体积去离子水

3.加入所需量的铬酐

4.添加所需量的CA-2000

5.加入去离子水、调节至规定液面

6。加热至55-60℃

7。分析硫酸浓度,调整至规定工艺范围

8.电解4小时

9。加入适宜的铬雾抑制剂

10.试镀

沉积速度

阴极电流密度(安培/平方分米)

沉积速度(微米/小时)

30

20-30

45

40-50

60

50-70

75

70-90

设备

镀槽:铁槽内衬软PVC或其它认可材料。

阳极:含锡7%铅锡阳极或其它认可材料。

整流器:输出电压可达9-16伏较适宜,输出电流波纹率最好在5%以下。

温度控制:采用热交换器或冷却管,建议采用钛管或金属披覆聚四氟乙烯。

转缸及前处理

传统的硬铬液转为CA-2000工艺简单,将镀液送交本厂化验。

确认无机杂质小于7.5克/升,同时不含氟化物即可,CA-2000工艺的前处理同一般传统镀铬相同无需特殊处理。

槽液维护:CA-2000用于槽液之补充添加,按每千安培小时补充4-6毫升。


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